ダウ・エレクトロニック・マテリアルズの半導体技術

ダウ・エレクトロニック・マテリアルズのセミコンダクター・テクノロジーズ(ST)は半導体および関連業界に、デバイス微細化促進と半導体デバイス能力を強化する最先端技術をお届けします。世界の半導体業界のために化学機械研磨(CMP)とリソグラフィーを有し、技術革新を進めるダウの製品は、フォトレジスト、BARC、メタライゼーション、CMPパッドとスラリー、その他関連材料を揃えています。

ダウセミコンダクター・テクノロジーズは半導体市場の2本柱となる分野、CMPとリソグラフィーに参入しています。弊社はCMPパッドとスラリーの世界大手である一方、フォトレジストBARCでは業界2位につけています。ダウは最大手にふさわしく、最先端のCMPおよびリソグラフィープロセス、テクニカルサービス、エンジニアリング分野で業界先端専門知識を備えた従業員1400名を擁しています。

弊社のミッションは明瞭で以下のとおりです:エレクトロニクスを介してよりよい世界を築くためにお客様との協力のもとで高度平坦化製品およびリソグラフィー製品有するのイノベーターになる。

CMP 製品 セミコンダクター・テクノロジーズは下記の半導体、シリコンウェーハ、ストレージメディアの平坦化と研磨に向けた材料をお届けします。

  • ハードおよびソフトパッド
  • 独自技術を有するスラリー
  • リソグラフィー製品と材料 セミコンダクター・テクノロジーズは下記の半導体ウェーハパターン形成用のフォトレジストとプロファイルを改善する反射防止材ならびにエレクトロプレイト製品をお届けします。
  • 193 nm 液浸関連材料、 ArF フォトレジスト、BARC、下層膜、トップコート、広範囲のフォトレジスト、EUV、ArF、KrF、i-Line、g-Line
  • ArF 、 KrF 用反射防止膜
  • 現像液、関連付属薬品